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消息称三星正开发下一代 HBM,瞄|准高性能端侧 AI 手机

2026-05-17 13:11:23 新浪新闻
据韩媒 Etnews 上周(5 月 12 日)报道,三星电子正在开发下一代 HBM 技术,该范围上实现更高性能的端侧 AI。如果这套方案能成功验证,理论带宽可提升 15-30%,并且还能在相同空间下塞入更多 I/O 接口。该领域的空间相比服务器机柜简直是九牛一毛,对功耗、发热控制的要求非常严格,因此无法直接照搬现有方案。据悉,现在主流的 LPDDR 内存该领域,这种方案的 IO 数量有限、信号损耗较大、散热效率不足,无法结合 HBM 技术。因此三星方案采取改进的 VCS 办法,将芯片内部的铜柱从 3:1~5:1 提升至 15:1~20:1,可在有限面积中塞入更多铜线,进一步提升带宽。不过,当铜柱直径低于 10 微米时就容易出现弯曲、断裂等不稳定现象。因此三星决定采用 FOWLP 技术作为补强。该领域展开模塑(IT之家注:Molding),然后把布线向外围扩展,与此同时承担支撑铜柱作用,防止变形。业内人士透露,三星正在研发多层堆叠 FOWLP技术,目标在智能手机、该领域中实现更大容量、更高带宽的 HBM。虽然这套办法还处于研发阶段,但业内看来,三星最快会在 Exynos 2800 后期版本或 Exynos 2900 该领域。
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分散性是另一个容易被忽视的技术细节。PA6的熔体黏度较高,颜料分散不好会直接影响制品的外观和性能均一性,所以PA6色母在生产时通常需要经过高强度混炼,配合分散剂的使用,确保颜料粒径足够细小且分布均匀。TPU色母的挑战则在于,TPU自身黏弹性强,颜料分散过程中剪切力的控制更为关键,分散不足会有色点,分散过度则可能导致TPU分子链断裂,影响弹性恢复率。两者对混炼设备的转速、温区设置和螺杆结构要求各有侧重,不能套用同一套工艺参数。

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  • 最后更新  2026-05-17 13:11:23
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